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PMMA光刻胶

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单 价: 面议
品 牌: 未填写
所在地: 江苏南京市
更 新: 2021-04-18
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公司基本资料信息
 
 
PMMA光刻胶是电子束正胶,其主要的特点就是超高分辨率、高对比度、可见光有高透过率。PMMA的缺点是抗等离子刻蚀能力比较差,不如大多数光刻胶,所以一般PMMA不用来做干法刻蚀的掩模,而是作为金属溶脱(lift-off)的掩模。PMMA光刻胶应用范围:纳米尺度的光栅,纳米尺度的电子器件,纳米结构,波导,金字形删或蘑菇形删(需要双层结构),量子点,牺牲层。南京百思优科技有限公司生产的PMMA光刻胶种类齐全,不同的系列中包含了各种分子量,各种溶剂(氯苯,乳酸乙酯,苯甲醚)以及各种固含量的PMMA,适合目前各种电子束曝光应用的电子束正胶。能满足集成电路生产中掩膜加工的高质量要求。PMMA光刻胶也可用于多层工艺,在玻璃、金属和硅等材料表面的附着力非常好。用低固体含量的型号可以得到30nm厚膜,特别适合制成纳米图形。

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