世界各地的纳米技术实验室正在开发许多微型传感器、晶体管和激光器。这些器件展示了超快和便宜的电子技术与通信技术的未来。但是，由于缺乏合适的制造技术，要使纳米技术走出实验室是很困难的。用于批量生产硅微芯片的工具对于纳米制造来说太粗笨了，而实验室中的特殊方法又太昂贵和耗时，不实用。
普林斯顿大学电子工程师斯蒂芬.乔认为，一种比印刷机复杂一些的装置可以解决这个问题。他仅仅是将一个硬模具压入软材料，就可以精确地印出小于10纳米的特征尺寸。2002年夏天验证该项技术的潜力时，乔证明了他可以在硅和金属上直接造出纳米特征尺寸。他用一束强激光掠过固体，融解表面到足够压上模具并印出所希望的特征尺寸。他也致力于显示纳米印刷可以解决刻蚀术面临的大挑战：如何将纳米图形刻蚀到硅片上，制造出以后各代高性能的微芯片。
最终，纳米印刷刻蚀技术会成为纳米特征尺寸的低廉和容易制造的方法的选择，用于通信用光学元件和诊断筛选用基因芯片等各种产品。
